高新技术
问题
理想情况下，硅内部的温度分布最受关注，但不实际. 通常测量硅的上表面液面温度，但加热器的杂散辐射会影响测量.在籽晶辅助生长工艺中，通常测量坩埚的底部温度。希望通过测量坩埚尽可能地接近放置种子/种子的底层温度。由于坩埚通常由石英制成并涂有Si3N4 , 因此需要对石英和 Si3N4 的光学特性有很好的了解。
方案
提供解决方案如下:
测量封闭管内的温度. 高温计测量的是与炉子内部环境达到热平衡盲管的最底部温度。
通过开口管测量熔融硅的温度. 精心设计的光学镜头可最大程度地减少加热器的影响，确保温度读数与顶部加热器的温度没有很大关系。
通过坩埚底部测量来推断籽晶层温度. LumaSense高温计经过优化，可获得最最接近的籽晶层温度.
客户获益
提高产量
更高质量
